| 发明名称 | 一种铬/金刚石复合镀层及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种铬/金刚石复合镀层，其制备方法包括下述步骤：在工件表面先用电镀的方法沉积一层铬，然后沉积一层铬/金刚石复合镀层，最后沉积铬加固层。由该方法所制得的铬/金刚石复合镀层其底镀层的铬镀层厚度为1～1.5μm，上砂镀层和加固层的铬镀层厚度总和为金刚石颗粒的80～90％。该铬/金刚石复合镀层体积浓度高，分散均匀，表面无裂纹，能防止工件中Fe、Ni、Co等石墨催化元素扩散至金刚石界面，可用作CVD金刚石的过镀层，沉积出的CVD金刚石膜具有镶嵌结构界面，大幅度的提高CVD金刚石膜/基界面结合力。 | ||
| 申请公布号 | CN101255592A | 申请公布日期 | 2008.09.03 |
| 申请号 | CN200710032268.3 | 申请日期 | 2007.12.07 |
| 申请人 | 华南理工大学 | 发明人 | 邱万奇 |
| 分类号 | C25D15/00(2006.01);C25D5/12(2006.01);C25D3/06(2006.01) | 主分类号 | C25D15/00(2006.01) |
| 代理机构 | 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨晓松 |
| 主权项 | 1、一种铬/金刚石复合镀层的制备方法，其特征在于包括下述步骤：在工件表面先用电镀的方法沉积一层铬，然后沉积一层铬/金刚石复合镀层，最后沉积铬加固层即可得到所述的铬/金刚石复合镀层。 | ||
| 地址 | 510640广东省广州市天河区五山路381号 | ||