发明名称 |
镀膜治具遮罩及其镀膜设备 |
摘要 |
本发明是关于一种镀膜治具遮罩及其镀膜设备。该镀膜治具遮罩,用于遮盖设于镀膜设备中的一镀膜治具,镀膜治具挟持至少一基板以进行镀膜制程,并形成至少一镀膜层于基板上,镀膜治具遮罩包括一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板。第二遮板分别连设于第一遮板相对两侧边;第三遮板具有至少一开口,分别与该等第二遮板连接,第三遮板与第一遮板相对而设,第一遮板、该等第二及第三遮板形成容纳空间容置镀膜治具,开口至少暴露出部分的基板。藉由镀膜治具遮罩具有至少一开口于镀膜制程中来修正形成于基板上镀膜层厚度,同时亦可防止基板非镀膜面被镀到及防止基板刮伤,而可在镀膜设备高速旋转下达到有效增加基板镀膜层均匀性功效,进而可提高镀膜基板的良率。 |
申请公布号 |
CN100415927C |
申请公布日期 |
2008.09.03 |
申请号 |
CN200410088449.4 |
申请日期 |
2004.10.29 |
申请人 |
精碟科技股份有限公司 |
发明人 |
徐振源;陈明华;李思贤 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01);C23C8/04(2006.01);C23C16/04(2006.01);C23C14/24(2006.01);C23C14/34(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1. 一种镀膜治具遮罩,是用于遮盖一镀膜治具,该镀膜治具设置于一镀膜设备中,且该镀膜治具挟持至少一基板以进行镀膜制程,并形成至少一镀膜层于该基板上,其特征在于该镀膜治具遮罩包括:一第一遮板;至少二第二遮板,其分别连设于该第一遮板的相对两侧边;以及一第三遮板,其具有至少一开口,并分别与所述的第二遮板连接,其中该第三遮板与该第一遮板相对而设,该第一遮板、所述的第二遮板及该第三遮板形成一容纳空间,该容纳空间容置该镀膜治具,该开口是至少暴露出部分的该基板。 |
地址 |
中国台湾 |