| 发明名称 |
化学溶液及使用该溶液处理基板之方法 |
| 摘要 |
揭露用以至少去除于基板之有机薄膜图案表面上形成的阻隔层，阻隔层至少包括因有机薄膜图案表面变化而形成之变形层，与沉积物沉积于有机薄膜图案表面而形成之沉积层之一，化学溶液包含至少具有羟基胺衍生物衍生物之一的第一成分水溶液，以及具显影功能之第二成分。 |
| 申请公布号 |
TW200813212 |
申请公布日期 |
2008.03.16 |
| 申请号 |
TW096131459 |
申请日期 |
2007.08.24 |
| 申请人 |
NEC液晶科技股份有限公司;长濑化成股份有限公司 |
发明人 |
城户秀作;铃木圣二;安江秀 HIDEKUNI YASUE;西佳孝 |
| 分类号 |
C11D7/32(2006.01);C11D7/50(2006.01);G03F7/32(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C11D7/32(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
