发明名称 移除表面残余物之清洁配方
摘要 本发明提供可用于由一半导体基材移除残余物之一种非腐蚀性清洁组成物。该组成物包含水、至少一种基羧酸酯、至少一种水溶性羧酸,任选地,至少一种含氟化合物,及任选地,至少一种不含羧基之腐蚀抑制剂。本揭示也提供一种使用该非腐蚀性清洁组成物而由一半导体基材清洁残余物之方法。
申请公布号 TW200813211 申请公布日期 2008.03.16
申请号 TW096123760 申请日期 2007.06.29
申请人 富士软片电子材料股份有限公司 发明人 柯尼尔 艾米尔
分类号 C11D7/26(2006.01);C11D7/32(2006.01);C11D7/04(2006.01);C11D7/60(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 C11D7/26(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国
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