电浆腔室中用于基板夹持之设备与方法

摘要

本发明大致上提供用以监测与维持一电浆反应器中基板之平坦度的方法与设备。本发明之特定实施例系提供一种用以处理一基板之方法，其至少包含：将基板定位在一静电夹具上；施加一RF功率于静电夹具中之一电极以及一反向电极之间，其中反向电极系设置成平行于静电夹具；施加一DC偏压至静电夹具中之电极，以夹持静电夹具上之基板；以及测量静电夹具之一虚拟阻抗。