| 摘要 |
〔课题〕使用照射雷射光于非晶质矽膜而结晶化的多结晶矽膜的薄膜电晶体的显示装置之中，在显示品质的点方面，有必要减低基板面内的多结晶矽膜的粒径的偏差。但是，以光学上管理多结晶矽膜的表面的凹凸的方法，只能掌握微米等级的偏差。〔解决手段〕本发明的评估装置，包括在绝缘性基板1的复数个评估单元101、施加电压于评估单元101的讯号导线105、经由讯号取出导线106用来测定来自评估单元101的输出的讯号取出导线用输出端子垫104，所以可容易地测定电子特性的面内分布。再者，藉由评估与多结晶矽膜的结晶粒径有关联的电子特性，可管理多结晶矽膜的结晶粒径的面内偏差。 |
