| 发明名称 |
聚合物之制造方法，绝缘膜形成用组成物，暨二氧化矽系绝缘膜及其制造方法 |
| 摘要 |
本发明之聚合物之制造方法，系含有下述步骤：使(A)以下述一般式(1)所示之至少1种聚碳矽烷化合物、与(B)选自下述一般式(2)所示之水解性矽烷化合物所示之化合物的至少1种矽烷化合物，于(C)金属钳合化物及酸性触媒之任一者存在下进行反应而得到中间体，其后将该中间体于(D)硷性触媒之存在下进行处理。 |
| 申请公布号 |
TW200835723 |
申请公布日期 |
2008.09.01 |
| 申请号 |
TW096145546 |
申请日期 |
2007.11.30 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
野边洋平;中川恭志;服部清太郎;秋山将宏 |
| 分类号 |
C08G77/50(2006.01);C09D183/14(2006.01);H01B3/46(2006.01);H01L21/316(2006.01) |
主分类号 |
C08G77/50(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
