发明名称 低启始电压之n型金氧半场效电晶体
摘要 本发明提供一种低启始电压之n型金氧半场效电晶体,包含:一具有相间隔设置之一源极区及一汲极区的p型半导体基板、一覆盖该p型半导体基板并含有HfSiON或HfLaON之化合物的闸极介电膜,及一含有Hf#sB!1#eB!#sB!-#eB!#sB!x#eB!Si#sB!x#eB!之金属矽化物并叠置于该闸极介电膜且实质上不与该源极区及汲极区重叠设置的闸极膜,其中,0.1≦x≦0.5。
申请公布号 TW200836341 申请公布日期 2008.09.01
申请号 TW096106141 申请日期 2007.02.16
申请人 国立清华大学 发明人 荆凤德;吴建宏;王水进;黄惠良
分类号 H01L29/772(2006.01) 主分类号 H01L29/772(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 新竹市光复路2段101号