| 摘要 |
本文描述具有减少烧上时间之溅镀标靶，其包括：a)一具有一平均粒度之机器加工表面材料，及b)一具有一平均粒度之芯材，其中该机器加工表面材料具有一等于或小于约该表面材料或该芯材中至少一者之该平均粒度的平均表面粗糙度(Ra)。本文描述具有减少烧上时间之溅镀标靶，其包括：一表面材料及一芯材，其中该表面材料或该芯材中至少一者包含一相对无带之结晶取向。另外，产生具有减少烧上时间之溅镀标靶之方法包括：提供一具有至少一些残余表面损害之表面材料、提供一芯材、将该表面材料耦接至该芯材，及将该表面材料机器加工至一等于或小于约表面材料或该芯材中至少一者之平均粒度的平均表面粗糙度(Ra)。此外，产生具有减少烧上时间之溅镀标靶之方法包括：提供一与一芯材组合之表面材料，其中该表面材料具有至少一些残余表面损害；及将该表面材料机器加工至一等于或小于约该表面材料或该芯材中至少一者之平均粒度的平均表面粗糙度(Ra)。 |
