发明名称 光扩散基材、及使用该基材之面光源
摘要 为了提供可有效解决亮度不均且兼顾画面上之均匀度与高亮度特性之光扩散基材、以及使用该光扩散基材之可形成高亮度且高均匀度之直下型背光的面光源,而形成一种光扩散基材,其系至少在单面具有由顶部及底部之反覆所构成之凹凸形状的基材,该基材系由折射率在1.45~1.65之范围内的材质所构成,当将顶部及底部之反覆方向设为x、基材的厚度方向设为z时,x-z平面中之凹凸形状之底边角度θ在55°~85°的范围内或95~125°的范围内,而且邻接底部间的切线斜率系朝x增加方向减少。
申请公布号 TW200835941 申请公布日期 2008.09.01
申请号 TW096149132 申请日期 2007.12.21
申请人 东丽股份有限公司 发明人 尾形大辅;菊池朗和;高桥弘造
分类号 G02B5/02(2006.01) 主分类号 G02B5/02(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本