| 摘要 |
一种用于半导体热制程之阻挡用的内衬遮盖(40)，其被一内衬(20)的顶部所支撑，其中该内衬(20)围绕一晶圆支撑塔体(22)。此内衬遮盖可以呈现一连续水平的表面以防止微粒掉落在内衬内，但在一阻挡组件中呈现复数水平延伸的气体通道(50)以允许制程气体流动通过该内衬遮盖。在本发明所述之一实施例中，一阻挡组件(51)包含一配置于该塔体之顶盘(26)之孔洞中并且具有开放顶部的杯状构件(62)、一连续底部(62)、复数通过其侧边的水平孔洞(60)、及一围绕其侧边以定义一回旋环状路径的框边(64)。或者，该平面顶盘可以包含通过其上之复数倾斜孔洞(116、122)或占据一小部分表面积的垂直孔洞(136)。此内衬及遮盖可以由石英、碳化矽或最佳者系矽所构成。 |
