液晶显示结构及其制造方法

摘要

本发明提供了一种液晶显示结构及其制造方法，该液晶显示结构及其制造方法通过增加一外加的导电层(即一第三导电层)，使该导电层分别于基板的控制区域及电容区域上，电性连接第二导电层、控制装置、及储存电容装置；于工艺中并利用半色调掩膜，同时定义第三导电层与透明电极的图案，由此控制曝光工艺，有效降低制造成本，并间接增加有效电场。

主权项

1. 一种制造一液晶显示结构的方法，其特征在于，所述结构包含一基板，所述基板具有多像素区域，所述像素区域具有一控制区域、一电容区域、及一显示区域，所述方法包含下列步骤：步骤a.分别形成一多晶硅层，于所述基板的控制区域及电容区域上；步骤b.形成一下介电层，覆盖于所述基板的控制区域及电容区域上，且对应于所述控制区域及电容区域，局部形成一第一导电层于所述下介电层上，于所述控制区域上形成一控制装置；步骤c.形成一上介电层，覆盖所述电容区域的所述第一导电层，并分别于所述控制区域及电容区域上形成一第二导电层，该第二导电层于所述电容区域中，与所述第一导电层间，形成一储存电容装置；步骤d.形成一平坦介电层及一透明电极于所述控制区域、电容区域、及显示区域上，覆盖所述控制装置及储存电容装置，并使所述控制区域及电容区域至少其中之一的第二导电层，形成至少一曝露区域，其中所述平坦介电层形成于所述透明电极上；步骤e.形成一第三导电层，电性连接所述第二导电层的至少一曝露区域、所述控制装置、及所述储存电容装置；以及步骤f.同时定义所述第三导电层与所述透明电极的所需图案。