发明名称 显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法
摘要 本发明提供一种显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法,该显影喷嘴结构包括一喷嘴腔体,具有一第一室、位于其下的一第二室、一注入管供应显影液注入所述第二室内,以及与所述第二室连通且位于所述第二室下方的一喷涂管;以及一闸门装置,设置于所述第一室与所述第二室之间,在所述闸门装置开启时,显影液中的气泡进入并集中于所述第一室,在所述闸门装置关闭时,所述第一室的气泡与第二室的显影液隔离,且第二室的显影液经由所述喷涂管向外喷涂。藉此,可大幅减少气泡随着显影液被带出至面板,故能提升工艺效率。
申请公布号 CN101251721A 申请公布日期 2008.08.27
申请号 CN200810091401.7 申请日期 2008.04.14
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 何松勋;张耿志
分类号 G03F7/30(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/84(2006.01) 主分类号 G03F7/30(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 任默闻
主权项 1. 一种显影喷嘴结构,其特征在于,所述显影喷嘴结构包括:一喷嘴腔体,具有一第一室、位于其下的一第二室、一注入管供应显影液注入所述第二室内,以及与所述第二室连通且位于所述第二室下方的一喷涂管;以及一闸门装置,设置于所述第一室与所述第二室之间,在所述闸门装置开启时,显影液中的气泡进入并集中于所述第一室,在所述闸门装置关闭时,所述第一室的气泡与第二室的显影液隔离,且第二室的显影液经由所述喷涂管向外喷涂。
地址 台湾省新竹市