使用处理靶做为度量靶以相对于半导体集成电路来定位激光束点的方法和系统

摘要

本发明公开了各种方法(600、700)以及系统(100)，用以相对于一半导体基板(130)来量测、决定、或是对齐一激光束点的位置，该半导体基板(130)之上或之内具有要通过传递一处理激光束至一处理激光束点(135)来进行选择性处理的多个结构(410)。该等各种方法(600、700)以及系统(100)会运用该些结构(410)本身来实施该量测、决定、或是对齐。

主权项

1.一种使用一脉冲式激光来处理一半导体基板(130)之上或之内的多个结构(410)的系统(100)，该系统(100)包括：一激光源(110)，其会产生一度量激光束与一脉冲式处理激光束，用于照射在该等结构(410)中多个选定结构之上；一度量激光传播路径，其是从该激光源(110)至该半导体基板(130)之上或之内的一度量激光束点(535)；一处理激光传播路径，其是从该激光源(110)至该半导体基板(130)之上或之内的一处理激光束点(135)；一运动平台(170)，其会被配置成用以于该半导体基板(130)以及该度量激光束点(535)与该处理激光束点(135)两者之间产生相对运动，以使该处理激光束点(135)会与该等结构(410)中该等多个选定结构相交，该运动大体上是发生于一笔直方向上；一传感器(198)，其被定位用以于该度量激光束点(535)相对于该半导体基板(130)移动时侦测反射自一或多个该等结构(410)的度量激光束点(535)的强度，从而产生一反射信号；一连接至该传感器(198)的控制器(190)，其会被配置成用以依据该反射信号决定要在何时或何处产生一处理激光束脉冲，以照射在该等结构(410)中该等多个选定结构之上。