| 发明名称 | 等离子体装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子体装置。所述等离子体装置包括：反应室，具有反应空间以容纳被处理的基板；线圈，位于所述反应空间的外部上；电源，将交流频率电源施加到所述线圈上；以及导电板，位于所述线圈和所述反应空间之间且从施加到所述线圈上的交流频率电源产生感应电流。因此，本发明提供了等离子体装置，其在反应室的内部气体中诱发均匀的电场。 | ||
| 申请公布号 | CN100414673C | 申请公布日期 | 2008.08.27 |
| 申请号 | CN200510129428.7 | 申请日期 | 2005.12.08 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 崔熙焕;金湘甲;吴旼锡;秦洪基 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01);H01L21/00(2006.01);H05H1/00(2006.01);H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1. 一种等离子体装置，包括：反应室，具有反应空间以容纳被处理的基板；线圈，位于所述反应空间的外部上；电源，将交流频率电源施加到所述线圈上；以及导电板，位于所述线圈和所述反应空间之间，直接面对所述反应空间，且从施加到所述线圈上的交流频率电源产生感应电流。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||