发明名称 光学装置及其制造方法
摘要 本发明涉及一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
申请公布号 CN101253426A 申请公布日期 2008.08.27
申请号 CN200680032121.8 申请日期 2006.08.25
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 赤羽良启;织田一彦;松浦尚;后利彦;今井贵浩
分类号 G02B5/18(2006.01);G02B6/12(2006.01);G02B6/036(2006.01);G02B6/13(2006.01) 主分类号 G02B5/18(2006.01)
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人 丁业平;张天舒
主权项 1.一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
地址 日本大阪府