发明名称 光学扫描装置和成像装置
摘要 本发明的目的是提供一种光学扫描装置和成像装置,该成像装置即使在温度变化时,可以利用简单的结构,减小在副扫描方向由不同光导鼓形成的多个像的位移。本发明的光束扫描装置具有一个光偏转装置、偏转前的光学系统和偏转后的光学系统,该偏转前的光学系统可以使多个光源发出的光束进入该光偏转装置,该偏转后光学系统包括第一光学部件,该第一光学部件用于将光偏转装置反射的光束成像在相应光束的被扫描表面上。在偏转前光学系统的一个位置上,配置第二光学部件,该第二光学部件在副扫描方向的正的或者负的放大率与第一光学部件的放大率相反,光束共同地穿过该第二光学部件,并使光束隔一定距离进入副扫描方向。本发明的成像装置具有本发明的光束扫描装置。
申请公布号 CN100414343C 申请公布日期 2008.08.27
申请号 CN200510008115.6 申请日期 2005.02.06
申请人 株式会社东芝;东芝泰格有限公司 发明人 白石贵志
分类号 G02B26/10(2006.01);B41J3/00(2006.01);G03G15/00(2006.01) 主分类号 G02B26/10(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王彦斌
主权项 1. 一种光束扫描装置,其特征在于,包括:单个的光偏转装置;偏转前光学系统,该偏转前光学系统允许多个光源发出的光束进入到该光偏转装置;偏转后光学系统,该偏转后光学系统包括第一光学部件,该第一光学部件用于使从该光偏转装置反射的光束成像在相应光束的被扫描表面上;其中,在偏转前光学系统的一个位置上配置第二光学部件,该第二光学部件的负的放大率与第一光学部件在副扫描方向的放大率正负相反,该位置允许光源发出的光束同时通过,并允许光源发出的光束进入副扫描方向而隔开一定距离.
地址 日本东京都