曝光装置

摘要

本发明的目的在于不增加成本进行曝光装置的照明轴偏移的检查。借助于光掩模1，使感光基板18的表面和二次光源14的面变成为光学共轭状态，在该状态下，对不包括投影光学系统17的光瞳的边缘的区域，和与该区域不重叠的、包括投影光学系统17的光瞳的边缘的区域进行照明以使感光基板18曝光，然后，根据使感光基板18显影得到的图案对照明轴偏移进行检查。

主权项

1. 一种曝光装置，其特征在于具备：设置光掩模的第1设置装置；用来对在设置在该第1设置装置上的上述光掩模上形成的图案进行照明的照明光学系统；设置基板的第2设置装置；用来向已设置在该第2设置装置上的上述基板上，投影上述光掩模的像的投影光学系统；对配置在上述照明光学系统的二次光源的面与上述投影光学系统之间的光路中，或配置在上述投影光学系统与上述基板之间的光路中，用于使上述基板和上述照明光学系统的二次光源的面光学性地共轭的透镜部件进行保持的装置。