| 发明名称 | 抛光组合物 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物，包含6元环骨架的三唑、水溶性聚合物、氧化剂和抛光粉。三唑的6元环骨架中具有疏水官能团。抛光组合物中三唑的含量为等于或小于3g/L。抛光组合物的pH值等于或大于7。所述抛光组合物适合在形成半导体器件线路的抛光中使用。 | ||
| 申请公布号 | CN101253607A | 申请公布日期 | 2008.08.27 |
| 申请号 | CN200680031676.0 | 申请日期 | 2006.09.01 |
| 申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 平野达彦;浅野宏;堀和伸 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);B24B37/00(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁国芳 |
| 主权项 | 1、一种抛光组合物，包括：具有6元环骨架的三唑；水溶性聚合物；氧化剂；以及抛光粉；其中所述三唑在该6元环骨架中具有疏水官能团，并且所述抛光组合物中所述三唑的含量等于或小于3g/L，所述抛光组合物的pH值等于或大于7。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县 | ||