用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统

摘要

一种用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统。该曝光装置包括一座台以及一光源。该至少一光源是位于该座台上方。该座台包括：一下板、一上板以及至少一加热件。上板位于该下板上并与该下板接合。该上板具有：至少一主动区(active area)；至少一虚构区(dummy area)大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于该至少一虚构区内。以解决在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，聚合物稳定配向式像素结构的液晶分子排列不符合理想的问题。

主权项

1. 一种用于聚合配向工艺的曝光装置，其特征在于，该装置包括：一座台，该座台包括：一下板，包括至少一加热件；以及一上板，位于该下板上并与该下板接合，该上板具有：至少一主动区；至少一虚构区大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于所述的至少一虚构区内；以及至少一光源，位于所述的座台上方。