发明名称 |
一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物及制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于抛光砖成膜,具高亮、抗污、抗菌之纳米黏土改性硅化合物组合物制备方法,所述的组合物由以下的组份和含量所组成:100重量份有机/无机复合型硅化合物黏结剂,1.0~20重量份的层状硅酸盐纳米黏土,7~15重量份的表面活性剂,1.0~20重量份的纳米氧化物。这种组合物与一般抛光砖防污剂或硬质蜡相比,具有优异的光泽度、抗污、抗菌、耐磨、耐化学腐蚀性能。可用于抛光砖表面镀膜使用,基本解决以往抛光砖防污材料所未能克服或达到的性能。 |
申请公布号 |
CN100413811C |
申请公布日期 |
2008.08.27 |
申请号 |
CN200510037297.X |
申请日期 |
2005.09.16 |
申请人 |
广东三水大鸿制釉有限公司 |
发明人 |
林仁钧 |
分类号 |
C04B41/81(2006.01) |
主分类号 |
C04B41/81(2006.01) |
代理机构 |
广州三环专利代理有限公司 |
代理人 |
詹仲国 |
主权项 |
1. 一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物,其特征在于,所述的组合物由以下的组份和含量所组成:100重量份有机/无机复合型硅化合物黏结剂1.0~20重量份的层状硅酸盐纳米黏土7~15重量份的表面活性剂,1.0~20重量份的纳米氧化钛或纳米氧化锌。 |
地址 |
528143广东省佛山市三水区大塘镇大布沙工业区 |