发明名称 印章结构改良
摘要
申请公布号 TWM338757 申请公布日期 2008.08.21
申请号 TW096220402 申请日期 2007.11.30
申请人 林锦龙 台南市东区东门路3段37巷29号 发明人 林锦龙
分类号 B41K1/02 (2006.01) 主分类号 B41K1/02 (2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种印章结构改良,主要系设有一可透视材质之印章本体,其中于印章本体内设有密闭容置室,并于密闭容置室内设入有液体与填入物;如此,即可从外透视印章本体内之液体与填入物者。2.如申请专利范围第1项所述之印章结构改良,其中密闭容置室体积系大于印章本体的二分之一者,故可使填入物之体积不受限制。3.如申请专利范围第1项所述之印章结构改良,其中液体可为水、有颜色之液体、油等,可让填入物于密闭容置室内缓慢移动,故填入物不会有碰撞损坏之情事发生。图式简单说明:第一图系本创作之使用示意图。第二图系本创作之使用剖视示意图。第三图系本创作之另一使用剖视示意图。
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