Method and device for controlling the contamination of wafer substrates

摘要

L'invention prévoit de mesurer la contamination directement à l'intérieur des enceintes de transport (1) par exemple de types FOUP ou SMIF. L'enceinte de transport (1) est posée sur un adaptateur (5) qui la met en communication avec un analyseur de gaz (2) externe. L'analyseur de gaz (2) ionise les gaz prélevés, et effectue l'analyse par mesure d'un paramètre des ions résultant de l'ionisation. On effectue ainsi une mesure en temps réel de la contamination gazeuse de très faible niveau.