| 发明名称 | 应用奈米小球形成二维图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种形成二维图案的方法，其包含：在一基板上涂覆多个小球；利用所述小球于所述基板上形成一屏蔽；蚀刻所述基板；及自所述基板移除所述屏蔽。此外，本发明另涉及一种处理一基板表面之方法，其包含：在所述基板表面上涂覆多个小球；在所述小球之间沉积一物质；及移除所述小球以在所述基板表面留下所述沉积之物质。根据本发明所提供的方法，其可提供更快、更简易及低成本之制程。此外，其所制作成之发光装置可具有较佳的光萃取效率及可变的光场图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101246937A | 申请公布日期 | 2008.08.20 |
| 申请号 | CN200710080267.6 | 申请日期 | 2007.02.15 |
| 申请人 | 香港应用科技研究院有限公司 | 发明人 | 郭浩中;唐诗韵;褚宏深;蔡勇 |
| 分类号 | H01L33/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01S5/00(2006.01);G02B6/122(2006.01) | 主分类号 | H01L33/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方;刘国伟 |
| 主权项 | 1. 一种形成二维图案的方法，其包含：在一基板上涂覆多个小球；利用所述小球于所述基板上形成一屏蔽；蚀刻所述基板；及自所述基板移除所述屏蔽。 | ||
| 地址 | 中国香港新界沙田香港科学园科技大道西二号生物信息中心3楼 | ||