具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层

摘要

本发明涉及一种具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层，该低电阻光衰减抗反射的涂层的多层结构为HL(HL)₆H(H代表高折射率的物质、L代表低折射率的物质)，其包括八个氧化物层，而该涂层的表层的物质为一可穿透的导电层和具有介于1.9到2.2的高折射率。本发明之涂层因为该表层有良好的导电特性，该具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层可以降低接地工艺所需的工作负荷和增加大量生产的合格率和可靠度，其可运用于液晶显示器或等离子显示器的玻璃基板或塑料基板上。

主权项

1. 一种具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层，其特征在于，包括有：一基板；一第十五层，设置于该基板的一前表面，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于20nm和40nm间；一第十四层，设置于该第十五层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第十三层，设置于该第十四层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第十二层，设置于该第十三层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第十一层，设置于该第十二层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第十层，设置于该第十一层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第九层，设置于该第十层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第八层，设置于该第九层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第七层，设置于该第八层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第六层，设置于该第七层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第五层，设置于该第六层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理介于30nm和80nm间；一第四层，设置于该第五层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第三层，设置于该第四层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第二层，设置于该第三层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；以及一第一层，设置于该第二层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于20nm和40nm间。