氮化硅膜制作方法及氮化硅膜制作装置

摘要

本发明的目的在于提供一种能以很好的再现性堆积成所需膜质的氮化硅膜的薄膜制作装置及其制作方法。它是在连接有排气系统和气体供给系统的真空容器内，配置发热体和基板，维持该发热体在预定温度，分解或活化由上述气体供给系统供给的原料气体，使氮化硅薄膜堆积在基板表面的化学蒸镀装置和蒸镀方法，其特征是：在上述真空容器内部，配置用以包围上述发热体和基板的内壁，形成成膜空间，设置将原料气体输入上述成膜空间的气体输入手段，同时，设置上述内壁的加热手段和/或冷却手段，形成将该内壁的温度控制在预定值的结构。

主权项

1. 一种氮化硅膜制作装置，通过在连接有排气系统和气体供给系统的真空容器内，配置发热体和基板；维持所述发热体在预定温度，分解或活化由所述气体供给系统供给的原料气体；使氮化硅膜堆积在基板表面，其特征是：在所述真空容器内部，配置用以包围所述发热体和基板的内壁，且与所述真空容器不直接接触地形成成膜空间；设置将原料气体输入所述成膜空间的气体输入手段；同时设置所述内壁的冷却手段，形成将所述内壁温度控制在预定值范围的结构。