| 发明名称 | 大尺寸光掩模基板的重复利用 | ||
| 摘要 | 具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用：(i)从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料，(ii)通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修，(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯，以及(v)加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。 | ||
| 申请公布号 | CN101246312A | 申请公布日期 | 2008.08.20 |
| 申请号 | CN200710169156.2 | 申请日期 | 2007.12.10 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 上田修平;柴野由纪夫 |
| 分类号 | G03F7/18(2006.01);G03F1/00(2006.01);B24B9/12(2006.01);C09G1/02(2006.01);C03C19/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/18(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 康建忠 |
| 主权项 | 1.一种重复利用大尺寸光掩模基板的方法，包括以下步骤：(i)从用过的大尺寸光掩模基板除去图案化的遮光膜，以提供要再生的大尺寸光掩模形成玻璃基板原料，(ii)使用喷砂的加工工具对玻璃基板原料进行表面重修，(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上以产生再生的大尺寸光掩模形成毛坯，以及(v)将毛坯的遮光膜加工成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||