发明名称 基板处理装置
摘要 本文披露了提高产量的基板处理装置。根据本发明的基板处理装置包括以并行方式排列的抗反射薄膜形成块,光刻薄膜形成块和显影块。各个块都包括化学处理舱,热处理舱和单个主传送机构。主传送机构将基板在各个块内传送。在相邻块的基板传送是通过基板台来进行的。各个块的主传送机构不受相邻块主传送机构的移动影响。从而,基板的有效传送提高了基板处理装置的产量。
申请公布号 CN100413019C 申请公布日期 2008.08.20
申请号 CN200510089532.8 申请日期 2003.04.30
申请人 日本网目版制造株式会社 发明人 福冨義光;杉本憲司;伊藤隆;岡本健男;稻垣幸彥;吉岡勝司;三橋毅
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 李玲
主权项 1. 一个基板处理装置,包括多个以并列方式排列的控制单元,各个控制单元都包括用于进行基板所需处理的处理舱,以及用于将所述基板传送进出所述处理舱的单个主传送机构,其特征在于,所述控制单元的主传送机构通过被提供用于接受待传送基板的基板台相互传送基板;各个所述控制单元都具有用于控制至少各个所述控制单元的主传送机构的基板传送操作的控制部件;并且,各个所述控制单元的所述控制部件可独立地控制一系列基板的传送步骤,这些步骤包括基板在所述处理舱中的来回传送和基板在所述基板台的来回传送。
地址 日本京都府