| 发明名称 | 基板载置台及用于其的表面处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种防止基板的吸附不良以便提高基板处理设备的开工率的基板载置台。该基板载置台布置在基板处理设备中并具有在其上载置基板的基板载置表面。基板载置表面的算术平均粗糙度(Ra)不小于第一预定值，并且基板载置表面的初期磨损高度(Rpk)不大于第二预定值。 | ||
| 申请公布号 | CN101246836A | 申请公布日期 | 2008.08.20 |
| 申请号 | CN200810074117.9 | 申请日期 | 2008.02.14 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 樋熊政一;佐佐木康晴;青砥雅;菊池英一郎 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01);C23F4/00(2006.01);C23C16/458(2006.01);C23C14/50(2006.01);C30B25/12(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 沙捷 |
| 主权项 | 1.一种基板载置台，其布置在对基板执行处理的基板处理设备中并具有在其上载置基板的基板载置表面，其中：基板载置表面的算术平均粗糙度(Ra)不小于第一预定值，并且基板载置表面的初期磨损高度(Rpk)不大于第二预定值。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||