发明名称 用于处理半导体器件的同一性的方法和系统
摘要 本发明公开了一种用于处理半导体器件的同一性的方法和系统。该方法包括:提供第一批多个半导体器件;提供第二批多个半导体器件;获取第一批多个被测量的值,其对应于与第一批多个半导体器件相关联的特性;以及获取第二批多个被测量的值,其对应于与第二批多个半导体器件相关联的特性。此外,本方法包括:执行第一统计分析;确定第一统计分布;执行第二统计分析;以及确定第二统计分布。此外,本方法包括:处理与第一和第二统计分布相关联的信息;以及确定指示量。并且,本方法包括:处理与指示量相关联的信息;确定置信度水平;处理与置信度水平相关联的信息;以及确定所述特性是否稳定。
申请公布号 CN100413018C 申请公布日期 2008.08.20
申请号 CN200410025412.7 申请日期 2004.06.14
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 王邕保;倪景华
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/66(2006.01);H01L21/82(2006.01);G06F17/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 陈红
主权项 1. 一种用于处理半导体器件的同一性的方法,所述方法包括:提供第一批多个半导体器件;提供第二批多个半导体器件;获取第一批多个被测量的值,所述第一批多个被测量的值对应于与所述第一批多个半导体器件相关联的特性;获取第二批多个被测量的值,所述第二批多个被测量的值对应于与所述第二批多个半导体器件相关联的特性;对所述第一批多个被测量的值执行一个第一统计分析;至少基于与所述第一统计分析相关联的信息确定一个第一统计分布;对所述第二批多个被测量的值执行一个第二统计分析;至少基于与所述第二统计分析相关联的信息确定一个第二统计分布;处理与所述第一统计分布和所述第二统计分布相关联的信息;至少基于与所述第一统计分布和所述第二统计分布相关联的信息确定一个指示量,所述指示量与所述第一统计分布和所述第二统计分布之间的重叠面积相关联;处理与所述指示量相关联的信息;至少基于与所述指示量相关联的信息确定一个置信度水平;处理与所述置信度水平相关联的信息;至少基于与所述置信度水平相关联的信息确定所述特性是否稳定;其中,所述置信度水平与所述指示量的二次幂以及所述指示量的一次幂相关联;其中,所述确定所述特性是否稳定的步骤包括:如果所述置信度水平等于或者高于95%,则确定所述特性是相同的;如果所述置信度水平低于95%,则确定所述特性是不相同的。
地址 201203上海市浦东新区张江路18号