| 发明名称 | 利用含胺聚合物的CMP系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学-机械抛光系统及方法，其包含液态载剂、抛光垫和/或磨料、及至少一种含胺聚合物，其中含胺聚合物具有5或更多个分离氨基官能团中氮原子的连续原子，或为嵌段共聚物，其具有至少一个包含一或更多个胺官能团的聚合物嵌段与至少一个不含任何胺官能团的聚合物嵌段。 | ||
| 申请公布号 | CN100412152C | 申请公布日期 | 2008.08.20 |
| 申请号 | CN03802445.4 | 申请日期 | 2003.01.13 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 凯文·J·莫根伯格;艾萨克·K·切里安;弗拉斯塔·布鲁西克 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 贾静环;宋莉 |
| 主权项 | 1. 一种化学-机械抛光系统，其包含：(a)液态载剂；(b)抛光垫及/或磨料；及(c)至少一种含胺嵌段共聚物，其具有至少一个包含一或更多个胺官能团的聚合物嵌段与至少一个不含任何胺官能团的聚合物嵌段。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||