发明名称 直下型背光装置
摘要 提供能够提高发光面的亮度均匀度之直下型背光装置。其为具有反射板、光源、光扩散板之直下型背光装置,在该光出射面形成具有特定Ra(max)的凹凸构造,在该光出射面之范围M#sB!R#eB!中设有光穿透抑制层,范围M#sB!R#eB!穿透率的最小值,相较于在该线状光源的中心位置投影在该光扩散板的位置,及相邻的该线状光源的中心位置在该光扩散板的投影位置的中间位置之包含该光扩散板及该光穿透抑制层的部分的穿透率之值低5%以上,相邻的该光源的中心间的平均距离为a及该光源的中心该光入射面的平均距离为b满足特定关系,该范围M#sB!R#eB!系为,以该光源的中心线投影于该光扩散板的射入面之位置为基准线,从该基准线起算距离M以内之区域,而且M及b满足特定关系。
申请公布号 TW200834185 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096140017 申请日期 2007.10.25
申请人 日本杰恩股份有限公司 发明人 塚田启介
分类号 G02F1/1335(2006.01) 主分类号 G02F1/1335(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本
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