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发明名称
将所期望之M个电浆参数值转译为N个腔室参数值之电浆反应器控制方法
摘要
本发明涉及一种藉由根据复数电浆参数的预期值来控制复数腔室参数,进而在电浆反应器腔室中处理晶圆的方法。该方法包括将M个电浆参数的一组M个预期值同时转换为各个N个腔室参数的一组N个值。该等M个电浆参数选自包括晶圆电压、离子密度、蚀刻速率、晶圆电流、蚀刻选择性、离子能量和离子质量的一组参数。该等N个腔室参数选自包括源功率、偏压功率、腔室压力、内磁铁线圈电流、外磁铁线圈电流、内区气体流速、外区气体流速、内区气体组成、外区气体组成的一组参数。该方法进一步包括将N个腔室参数设定为一组N个值。
申请公布号
TW200835399
申请公布日期
2008.08.16
申请号
TW096147298
申请日期
2007.12.11
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
霍夫曼丹尼尔J;古德爱尔罗伯
分类号
H05H1/46(2006.01)
主分类号
H05H1/46(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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