发明名称 |
III族氮化物结晶之制造方法、III族氮化物结晶基板及III族氮化物半导体装置 |
摘要 |
本发明提供一种至少表面位错密度整体较低之大型III族氮化物结晶之制造方法。本III族氮化物结晶之制造方法之特征在于包含:准备基底基板1之步骤,该基底基板1包含III族氮化物种晶,且III族氮化物种晶具有主区域1s及相对于主区域1s<0001>方向之极性相反之极性相反区域1t;及藉由液相法使III族氮化物结晶10于基底基板1之主区域1s及极性相反区域1t上成长之步骤;且主区域1s上所成长之III族氮化物结晶10之成长速度较的第1区域10s,系覆盖极性相反区域1t上所成长之III族氮化物结晶10之成长速度慢的第2区域10t。 |
申请公布号 |
TW200833883 |
申请公布日期 |
2008.08.16 |
申请号 |
TW096144328 |
申请日期 |
2007.11.22 |
申请人 |
住友电气工业股份有限公司 |
发明人 |
弘田龙;上松康二;川濑智博 |
分类号 |
C30B29/38(2006.01);H01L21/20(2006.01) |
主分类号 |
C30B29/38(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |