发明名称 III族氮化物结晶之制造方法、III族氮化物结晶基板及III族氮化物半导体装置
摘要 本发明提供一种至少表面位错密度整体较低之大型III族氮化物结晶之制造方法。本III族氮化物结晶之制造方法之特征在于包含:准备基底基板1之步骤,该基底基板1包含III族氮化物种晶,且III族氮化物种晶具有主区域1s及相对于主区域1s<0001>方向之极性相反之极性相反区域1t;及藉由液相法使III族氮化物结晶10于基底基板1之主区域1s及极性相反区域1t上成长之步骤;且主区域1s上所成长之III族氮化物结晶10之成长速度较的第1区域10s,系覆盖极性相反区域1t上所成长之III族氮化物结晶10之成长速度慢的第2区域10t。
申请公布号 TW200833883 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096144328 申请日期 2007.11.22
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 弘田龙;上松康二;川濑智博
分类号 C30B29/38(2006.01);H01L21/20(2006.01) 主分类号 C30B29/38(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本