尤指远紫外线（ＥＵＶ）微影之投影曝光装置的光学配置及减少污染之反射光学元件

摘要

本发明系关于一种光学配置，尤指远紫外线微影之投影曝光装置(1)，其包含：一封闭一内部空间(15)之外壳(2)；尤指反射光学元件的至少一光学元件(4至10、12、14.1至14.6)，其配置于该外壳(2)中；至少一真空产生单元(3)，其用于在该外壳(2)之该内部空间(15)中产生真空；及至少一真空外壳(18、18.1至18.10)，其配置于该外壳(2)之该内部空间(15)中且至少封闭该光学元件(4至10、12、14.1至14.5)之光学表面(17、17.1、17.2)，其中一污染减少单元与该真空外壳(18.1至18.10)相关联，该污染减少单元至少在该光学表面(17、17.1、17.2)附近相对于在该内部空间(15)中之尤指水及/或烃之污染物质的分压减小污染物质之分压。