发明名称 | 基板处理系统之制程配方最佳化方法 | ||
摘要 | 本发明揭示一种基板处理系统之制程配方最佳化方法,该基板处理系统包括:一基板处理装置,其依据一制程配方执行一待处理基板之一膜沈积制程;一资料处理单元,其执行一用以最佳化该制程配方之计算;及一主电脑;该基板处理装置、该资料处理单元及该主电脑系透过一网路而相互连接。本发明包括以下步骤:测量一待处理基板之一膜厚度,该基板已经过该基板处理装置所施行之一膜沈积制程;当该测量膜厚度偏离一目标膜厚度且偏差超出一允许范围时,将一进行一制程配方最佳化制程之指令从该主电脑发送至该基板处理装置;及回应来自该主电脑之进行一制程配方最佳化制程之指令,将所需资料从该基板处理装置发送至该资料处理单元,使该资料处理单元执行一制程配方最佳化计算以计算为获得该目标膜厚度之一最佳制程配方,并基于计算结果在该基板处理装置内更新该制程配方。 | ||
申请公布号 | TW200834722 | 申请公布日期 | 2008.08.16 |
申请号 | TW096137626 | 申请日期 | 2007.10.05 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 山地要;铃木清司;竹永裕一 |
分类号 | H01L21/31(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |