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发明名称
薄膜体声波元件与射频通讯元件之结构及其制造方法
摘要
本发明系关于薄膜体声波元件与射频通讯元件之结构及其制造方法,该结构包括:至少一薄膜体声波元件;及一射频通讯元件和薄膜体声波元件电性连接于一晶片上,且薄膜体声波元件具有正温度系数压电层及负温度系数压电层。该制造方法的步骤包括:利用一互补式金氧半导体制程制作一射频通讯元件于一晶片上;及利用一微机电制程在晶片上制作至少一薄膜体声波元件,其和射频通讯元件电性连接,形成本发明之结构。本发明可使声波被动元件与射频主动电路整合于单一晶片,对加速系统设计、减少整合测试程序均有重大帮助。
申请公布号
TW200835003
申请公布日期
2008.08.16
申请号
TW096103747
申请日期
2007.02.01
申请人
国防部军备局中山科学研究院
发明人
宋伯勋;覃永忠;陈培元;张培仁;方启铭;候俊礼
分类号
H01L41/08(2006.01);H03H9/145(2006.01)
主分类号
H01L41/08(2006.01)
代理机构
代理人
蔡秀玫
主权项
地址
桃园县龙潭乡佳安村6邻中正路佳安段481号
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