发明名称 投影光学系统,曝光方法与装置,以及元件与光罩的制造方法
摘要 本发明提供一种投影光学装置,当使用多个投影光学系统来使光罩图案的放大像形成于物体上时,使各投影光学系统所形成的投影像准确地接合,而良好地进行图案转印。该投影光学装置包括第1投影光学系统PL1及第2投影光学系统PL2,其中该第1投影光学系统PL1是将光罩MA上的点a发出的光束引导至板PT上的点A,且将光罩MA的放大像形成于板PT上,该第2投影光学系统PL2是将光罩MA上的点b发出的光束引导至板PT上的点B,且将光罩MA的放大像形成于板PT上,并且,当自非扫描方向观察时,点a在板PT上的正交投影点a'与点A连接而成的第1线段、和点b在板PT上的正交投影点b'与点B连接而成的第2线段重叠。
申请公布号 TW200834257 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096147451 申请日期 2007.12.12
申请人 尼康股份有限公司 发明人 熊泽雅人;田仁志
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F1/00(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本