半导体元件及其制造方法以及提高膜层应力的方法

摘要

一种半导体元件的制造方法，此方法包括提供基底，基底上已形成有第一导电型电晶体与第二导电型电晶体。接着于基底上形成一应力层，共形地覆盖住第一与第二导电型电晶体。再于第一导电型电晶体上方之应力层上形成一顶盖层。尔后进行一改质处理后，再移除顶盖层。