曝光装置

摘要

一种曝光装置，其包括光源及一个与该光源相对设置之承载机构，该光源发出之光束投射到该承载机构上，所述承载机构包括一个承载台，一个设置于该承载台上且设置有内齿牙之齿圈，一个设置于该承载台上且与该齿圈共中心轴线之第一齿轮，至少一个设置于该齿圈与该第一齿轮之间且分别与该齿圈之内齿牙及该第一齿轮相啮合之第二齿轮，所述至少一个第二齿轮之与该光源相面对之表面上设置有至少一个用于容置被曝光物之容置槽，所述至少一个第二齿轮绕该中心轴线旋转之同时可以绕其自身之中心线自转。