用于离子布植机之离子束

摘要

本发明有关于一种在离子布植机中调节离子束的方法，其可用于半导体装置的制造。许多与离子布植机操作有关的操作参数，会影响到达晶圆的离子束。控制此等参数能调节离子束，以针对任一特定布植制程提供最佳的离子束电流、能量、尺寸及形状。本发明提供一种调节离子束的方法，其包含：撷取一组操作参数，其至少一部份储存在一动态资料库中；根据已撷取之操作参数组来设定该离子布植机，从而提供一离子束；藉由变化该等操作参数中的一或多个参数以最佳化该离子束；以及，将最佳化期间改变的操作参数更新储存在动态资料库中。