透明导电膜之制造方法

摘要

一种透明导电膜之制造方法，系藉由溅镀法之包含铟与锌的氧化物之透明导电膜之制造方法，其特征为：将以氧化铟与氧化锌为主成分之靶的表面的平行磁场强度保持于未满400Oe(奥斯特（Oersted）)来进行溅镀。