| 摘要 |
本发明揭示一种非铬相位移光罩之形成，其包含：制备一具有一铬金属层的光罩基板；在该铬金属层中形成主要及互补图案部分；移除一剩余之辐射敏感材料层；在该互补图案部分上形成一辐射敏感材料层；使用已图案化之铬金属层当作一蚀刻光罩而蚀刻该光罩基板之主要图案部分；从该主要图案部分移除该铬层之剩余部分，及移除该互补图案部分上之辐射敏感材料层。一非铬相位移光罩之制造包含将写入一相位层及一铬层组合到一非铬相位移光罩制造程序之一单一写入步骤中，其中避免该相位层与该铬层间的叠对位移。于制造该光罩期间，该光罩之一主要图案区与一切割区的接合线间并未形成一相位边缘。 |
