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发明名称 Ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements mit vergrößerten Metallsilizidbereichen
摘要
申请公布号 DE10208751(B4) 申请公布日期 2008.08.14
申请号 DE20021008751 申请日期 2002.02.28
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES INC. 发明人 WIECZOREK, KARSTEN;HORSTMANN, MANFRED;STEPHAN, ROLF
分类号 H01L21/8238;H01L21/28;H01L21/283;H01L21/285;H01L21/336 主分类号 H01L21/8238
代理机构 代理人
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