| 发明名称 | 成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种成像系统、特别是显微光刻的投影曝光设备的投影物镜，具有至少一个光学元件(100)，所述光学元件包含在预定工作波长情况下折射率n大于1.6的立方晶体材料，并且具有图像侧的小于折射率n的数值孔径NA，其中在所述折射率n与成像系统的数值孔径之间的差(n－NA)最大为0.2。 | ||
| 申请公布号 | CN101243359A | 申请公布日期 | 2008.08.13 |
| 申请号 | CN200680029609.5 | 申请日期 | 2006.08.04 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | K·－H·舒斯特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G02B1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢江;刘春元 |
| 主权项 | 1.成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜，具有·至少一个光学元件(100)，所述光学元件(100)具有立方晶体材料，所述立方晶体材料在预定的工作波长的情况下具有大于1.6的折射率n；·和图像侧的数值孔径，所述数值孔径小于所述折射率n；·其中在所述折射率n与所述成像系统的数值孔径NA之间的差(n-NA)最大为0.2。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||