发明名称 | 电镀自焊接三维微电极阵列方法 | ||
摘要 | 本发明属于微电极制备技术领域,具体涉及电镀自焊接三维微电极的方法。其步骤是把微电极穿过金属微孔,并固定在插槽中;对微金属孔进行电镀,使金属孔逐渐变小,直到与穿过微金属孔的微电极结合在一起,从而实现了微电极与微金属孔的自焊接。这种焊接方法可以轻松实现金属微电极阵列与微金属孔的立体焊接,效果很好,并且方法简单,成本也较低。 | ||
申请公布号 | CN101240435A | 申请公布日期 | 2008.08.13 |
申请号 | CN200810034328.X | 申请日期 | 2008.03.06 |
申请人 | 复旦大学 | 发明人 | 吕尊实;周嘉;高安;纪新明;黄宜平 |
分类号 | C25D2/00(2006.01) | 主分类号 | C25D2/00(2006.01) |
代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人 | 陆飞;盛志范 |
主权项 | 1、一种电镀自焊接三维电极阵列的方法,其特征在于具体步骤如下:是把微电极穿过金属微孔,并固定在对应的插槽中,在金属微孔中电镀相应的金属,使金属微孔的直径逐渐减小,最终与金属微电极结合在一起,从而实现微电极阵列与金属微孔的自焊接。 | ||
地址 | 200433上海市邯郸路220号 |