| 发明名称 | 分解图案的方法、计算机可读介质、器件制造方法和掩模 | ||
| 摘要 | 一种将包含待在晶片上印制的特征的目标图案分解为多个图案的方法。所述方法包括步骤：(a)限定表示在待成像的特征之间的最小必需间隔的影响区域；(b)选择与目标图案的特征相关联的顶点；(c)确定另一特征的边缘是否位于与所述顶点相关的影响区域内；以及(d)如果另一特征的边缘位于所述影响区域内，则将所述另一特征分割为两个多边形。 | ||
| 申请公布号 | CN101241300A | 申请公布日期 | 2008.08.13 |
| 申请号 | CN200710305162.6 | 申请日期 | 2007.11.14 |
| 申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | 罗伯特·索哈 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F1/14(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种用于将包含待印制到晶片上的特征的目标图案分解为多个图案的方法，所述方法包括步骤：(a)限定表示在待成像的特征之间的最小必需间隔的影响区域；(b)选择与所述目标图案的特征相关联的顶点；(c)确定另一特征的边缘是否位于与所述顶点相关的所述影响区域内；以及(d)如果另一特征的所述边缘位于所述影响区域内，则将所述另一特征分割为两个多边形。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||