发明名称 用于散射仪的双光束设置
摘要 提供了一种具有双光束设置的散射仪或二次散射仪和使用其的方法,以产生光学参数测量值。双光束二次散射仪包括在底部由基底(320)密封的半球形穹面外壳(318)。辐射源(302)分成两个光束产生辐射:用于照明样本表面(308)的照明光束(304)和用于提供与照明光束(304)有关的光学特征信息的校准光束(330)。经由分立的光路将每个光束引导到半球形穹面外壳(318)之内。定位光学成像装置(324)以获取由被照明光束(304)照明的样本表面(308)散射的散射辐射(314)的图像,并同时获取校准光束的图像。在分析散射辐射数据时,利用校准光束图像补偿辐射源(302)的光输出的变化。
申请公布号 CN101243313A 申请公布日期 2008.08.13
申请号 CN200680029684.1 申请日期 2006.08.04
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 S·瓦德曼
分类号 G01N21/27(2006.01);G01N21/47(2006.01);G01B11/30(2006.01);G01N21/57(2006.01) 主分类号 G01N21/27(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王英
主权项 1、一种用于表征样本表面308的光学外观的设备300,所述设备300包括:上部外壳318,其具有顶表面上中心位置处的第一孔隙310、形成于从所述第一孔隙310偏移的位置处的第二孔隙326以及形成于所述上部外壳318的底部位置处并垂直于所述第一孔隙310的第三孔隙332,所述上部外壳318具有被配置成投影屏316的内表面;被配置并定位成支撑所述上部外壳318的基底320,所述基底320和所述上部外壳318形成封闭体积312,并且所述基底320具有与所述第一孔隙310相对定位的开口322,使得当靠着所述基底320的外表面定位所述样本表面308时,通过所述第一孔隙310和所述开口322可以看见所述样本表面308的至少一部分;辅助反射镜328,其设置在所述基底320的内表面上,并与所述第二孔隙326和所述第三孔隙332光学相通;位于所述封闭体积312之外的辐射源302;由所述辐射源302产生的第一辐射束304,所述第一辐射束304被沿着第一光路引导,所述第一光路始于所述辐射源302,经过所述第一孔隙310、所述开口322并以一入射角终止于所述样本表面308;光学成像装置324,位于所述封闭体积312之外,并与所述第二孔隙326和所述辅助反射镜328光学相通;以及由所述辐射源302在发射所述第一辐射束304的同时发射的第二辐射束330,所述第二辐射束330被沿着第二光路引导,所述第二光路始于所述辐射源302,通过所述第三孔隙332进入所述封闭体积312,通过所述第二孔隙326重新定向并终止于所述光学成像装置324。
地址 荷兰艾恩德霍芬