| 发明名称 | 一种制造光学系统的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光学系统(OS)的计算方法，该光学系统(OS)用函数(OF)标识，该光学系统(OS)包括用第一方程定义(EF1)的第一部分(F1)和用第二方程定义(EF2)的第二部分(F2)，该方法包括步骤：－产生步骤(GEN)，其中用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF)；－修正步骤(MOD)，其中虚拟函数(VOF)被修正以获得函数(OF)；－计算步骤(CAL)，其中，基于函数(OF)以及第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。本发明还涉及一种光学系统(OS)的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101243351A | 申请公布日期 | 2008.08.13 |
| 申请号 | CN200680029513.9 | 申请日期 | 2006.08.01 |
| 申请人 | 埃西勒国际通用光学公司 | 发明人 | 帕斯卡尔·阿利翁;吉勒·勒索;让－皮埃尔·肖沃;德尼·马聚埃 |
| 分类号 | G02C7/02(2006.01);G02B3/10(2006.01);G02B3/00(2006.01) | 主分类号 | G02C7/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 罗朋 |
| 主权项 | 1.一种计算光学系统(OS)的方法，其中，该光学系统(OS)用函数(OF)标识，其特征在于，所述光学系统(OS)包括用第一方程(EF1)定义的第一部分(F1)以及用第二方程(EF2)定义的第二部分(F2)，该方法包括以下步骤：-产生步骤(GEN)，其中，用虚拟光学系统(VOS)产生虚拟函数(VOF)；-修正步骤(MOD)，其中，修正虚拟函数(VOF)以获得函数(OF)；-计算步骤(CAL)，其中，用于通过函数(OF)和第一方程(EF1)计算第二方程(EF2)。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||