膜图案的形成方法和有源矩阵基板的制造方法

摘要

本发明提供一种不需要对围堰实施表面处理(疏液化处理)，由此简化了工序、提高了生产效率的膜图案的形成方法、和由此获得的膜图案以及器件和电光学装置等。该膜图案的形成方法将功能液(X1)配置在基板(P)上来形成膜图案。包括以下工序：在基板(P)上形成与膜图案的形成区域对应的围堰(B)；在由围堰划分的区域(34)配置功能液(X1)；和对功能液(X1)实施固化处理而形成膜图案。在形成围堰(B)的工序中，首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液，接着对其进行曝光、显影，形成图案，然后通过烧结，形成在侧链上具有疏水基，并将硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰，作为功能液(X1)，使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。

主权项

1. 一种膜图案的形成方法，通过将功能液配置在基板上来形成膜图案，包括：在所述基板上形成与所述膜图案的形成区域对应的围堰的工序；在由所述围堰划分的区域配置所述功能液的工序；和对所述功能液实施固化处理而形成膜图案的工序，在形成所述围堰的工序中，首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液，接着对其进行曝光、显影，形成图案，然后，通过烧结，形成在侧链具有疏水基，并将聚硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰，作为所述功能液，使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。